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Developed Equipment

自研设备

  • Rubi3
    ①12”涂胶显影机。

    ②Si or Glass， SOC， SOD，Polymide coating and develop ，inline模式。
    2024-07-26
  • Rubi2
    ①12”，Stand alone 涂胶显影机。

    ②Si or Glass， SOC， SOD，offline BARC，Polymide coating and develop ，offline模式。
    2024-07-26
  • Rubi1
    ①6”& 8”兼容，第二代第三代半导体制造用涂胶显影机

    ②Si/ GaAs/SiC/LiTaO3/GaN STAND ALONE
    2024-07-26

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