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Rubi1

①6”&  8”兼容,第二代第三代半导体制造用涂胶显影机

②Si/ GaAs/SiC/LiTaO3/GaN STAND ALONE

产品优势:

 

1、高速度:WPH达250~300片。

2、整机设计:4C4D架构,可以拓展8C8D。

3、OVEN单元:多元化设计,在传送时同时降温处理。

4、SPIN单元:上下层设计节省空间,满足气体流体力学设计,较少Defect。

5、热板控制:高稳定性、高精准性。

6、热板调试:调试升温曲线,PID 配置。快速升温,满足热板稳定性需求。